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熱搜關(guān)鍵詞:流體拋光機(jī),磨粒流拋光設(shè)備,內(nèi)孔拋光

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異形孔拋光,還是流體拋光速度快,效果好!

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編輯時(shí)間: 2021-08-18 00:00:00
來(lái)源:
流體拋光

對(duì)于拋光工作來(lái)說(shuō),最簡(jiǎn)單的是平面拋光,磨床、平面拋光機(jī)、砂帶機(jī)或者人工打磨都可以,稍有難度的是正圓形內(nèi)孔拋光,當(dāng)然可用工具也很多。最難的是異型孔和彎曲孔拋光。今天就來(lái)講一講異形孔拋光,用流體拋光的方法來(lái)解決。

 

 

一般用慢絲割完,粗糙度達(dá)到0.8,最多可以0.4,距離鏡面還是有一小段距離,就是這一小段距離會(huì)難倒很多人。繼續(xù)修下去意義不大,人工精拋對(duì)于異形孔來(lái)說(shuō)太費(fèi)勁,邊邊角角的地方,弧面區(qū)域,細(xì)窄區(qū)域,都不容易拋,拋了也不均勻。斯曼克流體拋光機(jī)通過(guò)擠壓軟性磨料到異形孔進(jìn)行拋光,最小孔徑可以通過(guò)8絲,基本可以滿足99%以上的孔徑拋光。

 

 

 

拋光過(guò)程中工件本身是固定的,用工裝保護(hù)起來(lái),磨料流動(dòng)研磨。所以不用擔(dān)心工件會(huì)被磕傷之類的,磨料壓力1-14Mpa,去除量在1-2個(gè)μ,單面。如果是再鍍層工件,可以不用留余量,拋完直接鍍層。如果不用鍍層而對(duì)公差要求也特別高,可以留2個(gè)μ余量。流體拋光機(jī)去除量是穩(wěn)定的,只要設(shè)定參數(shù)沒(méi)有改變。

 

目前市場(chǎng)上有一些山寨設(shè)備,設(shè)備性能不足,而且磨料性能也非常差,本來(lái)2分鐘能拋完的東西,他們要拋10分鐘,這種設(shè)備對(duì)均勻性控制非常不利,有些地方已經(jīng)拋過(guò)量了,有些地方還沒(méi)有效果。而且磨料難清理,特別黏。

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