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內(nèi)孔拋光-不改變公差使內(nèi)孔內(nèi)壁降低粗糙度

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編輯時(shí)間: 2021-08-17 00:00:00
來(lái)源：
流體拋光機(jī)

這是需要內(nèi)壁拋光的一共工件，需要降低內(nèi)孔粗糙度，提升光潔度。需要說(shuō)明的是，光潔度與光亮度并不是一個(gè)概念。光亮度是肉眼看起來(lái)的亮度，很多不銹鋼產(chǎn)品鍍鋅就是為了光亮度，但光潔度是指工件表面粗糙度的多少。有時(shí)候很多工件看起來(lái)未必很亮，但光潔度很高，是因?yàn)樗拇植诙鹊汀?/span>

磨粒流內(nèi)孔拋光

降低內(nèi)孔內(nèi)壁粗糙度最有效的方法是磨粒流拋光工藝，可以有效提升工件光潔度3-5個(gè)檔次，并且對(duì)工件原始公差影響極小，通常在3個(gè)μ左右。磨粒流工藝拋光內(nèi)孔有3大優(yōu)點(diǎn)：
1、可以深入交叉孔、彎曲孔、異型孔，不受孔形狀影響；
2、拋光效果極為均勻，且流向具有一致性；
3、拋光精度高，公差損失??；

我們通過(guò)一個(gè)示意圖，來(lái)看下該工件是如何完成內(nèi)孔內(nèi)壁拋光的：

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